眼前，正在逐鹿日趋白热化的OLED范围，继守旧FMM（灵巧金属掩模版）蒸镀和印刷显示以外，被视为OLED第三条道道的“无FMM光刻工夫”正正在成为让OLED显示界寄予厚望的新主旨。2023年今后，众家半导体显示企业公告将操纵半导体光刻工艺而非FMM的OLED工夫。
那么，希望攻陷守旧OLED软肋的“光刻”道道，毕竟能否为OLED显示启发出一条极具异日前景的新航道？指日，众位业内专家向《中邦电子报》记者指出，无FMM光刻OLED道道要是凯旋贸易化，将希望进一步拓展OLED的运用范围，把OLED财富推向下一个阶段。
目前，OLED显示工夫势头正盛，加倍AMOLED已正在小尺寸范围霸占半壁山河。Omdia数据显示，2022年环球OLED面板墟市界限为433亿美元，估计到2027年墟市界限将到达577亿美元。但OLED要思正在显示界“更上一层楼”，异日的重头戏会聚焦于中大尺寸偏向，以抢占更大的墟市空间。
“眼前，AMOLED工夫曾经正在6代产线和智在行机运用范围获得凯旋，但要从迭代工夫成为主流工夫，AMOLED还须要向其他运用范围扩展排泄。”中邦光学光电子行业协会液晶分会常务副秘书长胡春明向《中邦电子报》记者呈现，中大尺寸的IT产物是下一步AMOLED工夫符合的攻合偏向，由于经济切割尺寸的须要，现有的6代产线+代产线+代产线代产线水准蒸镀的式样，但蒸镀筑设非常高贵，而笔直蒸镀的式样另有极少题目没有基础处分。
正在OLED向更大尺寸和更高世代线的偏向冲破时，具有高附加值和高工夫壁垒的FMM（即灵巧金属掩膜版）成为一道无法绕开的“壁垒”。
据认识，OLED面板量产的主流步骤是真空蒸镀工艺，而FMM举动用于OLED中枢蒸镀制程的耗费性中枢资料，可处分蒸镀有机资料RGB三基色的微米级像素阵列涂布，直接断定了AMOLED显示屏的离别率、显示成就、坐蓐良率。FMM是中小尺寸柔性OLED坐蓐中不行或缺的资料，也是造成高离别率像素的必备零部件。
职位云云紧急的FMM，却也成为绑正在OLED坐蓐企业头上的“紧箍咒”。须要指出的是，目前日本印刷株式会社（DNP）垄断了环球FMM90%以上的墟市份额，蕴涵韩邦三星显示、LGDisplay以及邦内重要OLED面板厂商只可与日本DNP签定合系排他性允诺。其余，成立FMM的要害资料Invar合金仅有日本日立金属（HitachiMetals）一家企业坐蓐，况且还不行大面积拼接。为了避免FMM正在蒸镀时代变形，目前6代产线简直已是FMM的极限尺寸。
正在工夫疾速迭代的半导体显示范围，更始才是硬意思。当旧道道形成妨碍，新道道便会脱颖而出。
“蒸镀工艺所须要的FMM需要资源非常有限且容易受制于人，以是无需操纵FMM的光刻道道日益受到极少面板厂的合怀，并最终成为其政策采取。”胡春明说道。
客岁5月，日本显示器公司（JDI）乍然公告，公司开垦出了操纵无掩模浸积和光刻工夫的OLED工夫，并将其定名为“eLEAP”。JDI呈现该工夫不操纵FMM，但却能够调动确地对RGB像素实行图案化。同年8月，eLEAP样品被交付客户，并准备于2024年起源量产。本年4月，JDI公告与中邦面板企业惠科HKC签定政策同盟原谅备忘录，两边的配合实质蕴涵联合开垦下一代OLED工夫。
实践上，无FMM光刻工夫道道曾经正在OLED显示圈惹起了不小震撼，也受到了蕴涵三星显示正在内的众家企业合怀。
本年5月，维信诺正在2023全邦超高清视频财富起色大会上环球首发了无稹密金属掩膜板RGB自对位像素化工夫（即维信诺ViP工夫）。据悉，维信诺ViP工夫具有无FMM、独立像素、高精度的特征，通过半导体光刻工艺，完成更稹密的AMOLED像素。因为该计划正在蒸镀制程中不须要FMM，使蒸镀制程和筑设简陋化，处分了FMM对显示屏尺寸、离别率及其他屏体本能的范围，是超高本能、全域尺寸、灵动交付的AMOLED量产升级计划。
“从财富界的音问来看，眼前中日韩三邦显示财富企业都正在实行光刻OLED工夫的研发。”维信诺研发总监肖一鸣向《中邦电子报》记者呈现，目前维信诺已告终ViP工夫验证和量产工艺集成，正正在合肥第六代AMOLED量产线上弥补投资，实行财富化，并于2024年上半年完成量产出货，随后公司将择机维护更高世代量产线。
正在短短一年支配的时刻里，无FMM光刻道道正在OLED显示圈起源“名声大噪”，这让走守旧蒸镀FMM道道的玩家变得不再淡定。
本年6月初，韩邦显示财富协会更始显示更始工艺项目组主任KimYong-seok正在研讨会上指出，对通过半导体光刻工艺OLED而不操纵FMM的工夫应持隆重立场，由于正在本年的SID上，众家企业公告操纵半导体光刻工艺而不操纵FMM的OLED工夫。其余，有业界主张以为，当前韩邦正在OLED行业曾经树立了基于FMM的像素组织专利壁垒，一朝光刻OLED工夫贸易化，行业可以会产生组织性转嫁，那么之前的专利壁垒或将消灭。
“无FMM光刻OLED道道的中枢上风正在于操纵半导体光刻工艺制备独立的、高密度的显示像素，该道道希望冲破FMM制备经过中存正在的显示亮度、密度的‘天花板’。行使该工夫制备的AMOLED面板，可具有更高的离别率和亮度，以及更好的颜色外示力。”赛迪智库集成电道研商所主任耿怡正在采纳《中邦电子报》记者采访时呈现。
目前来看，被视为OLED第三条道道的“无FMM光刻工夫”具备的潜正在上风重要显示正在本能、运用和本钱三个方面。正在本能方面，该工夫道道明显刷新了OLED显示的峰值亮度、离别率、寿命和功耗；正在运用方面，冲破了FMM对显示屏样子的范围，准许将屏幕打算为自正在样子，能够遮盖从VR/AR细微尺寸到电视等超大尺寸的全运用范围；正在本钱方面，处分了FMM用度高、交期长、起订门槛高的痛点，具有新的量产上风，运营本钱低。
正在肖一鸣看来，该工夫将成为OLED财富运用夸大化的紧急切入点，并促使AMOLED财富进入下一个阶段。能够说它是一把，能处分OLED显示从细微到中大尺寸的“堵点”工夫题目，翻开通道，完成新的冲破和起色。
“要是光刻OLED工夫财富化，将会加快OLED向中大尺寸运用排泄的进度。”不外，胡春明也向记者指出，目前无FMM光刻工夫重要的缺乏是缺乏量产体验，须要实行需要的中试验证。
“该工夫的前景令人兴奋，然而否会带来翻天覆地的转移，另有待考查。基于FMM道道坐蓐的OLED显示面板曾经大界限运用于智在行机、腕外等范围，产线相对成熟，本钱驾御更具上风。”耿怡进一步注释道，该工夫属于新兴工夫，目前还未有产线进入量产，正在量产完成经过中，坐蓐出力、筑设本钱、良率提拔、资料系统查究等方面另有待进一步考查。“无FMM光刻OLED道道贸易化凯旋后，希望进一步扩展OLED的运用规模。”
但与此同时，也有业内人士向记者呈现，对无FMM光刻工夫持守旧立场，它性子上还属于蒸镀工艺，最大的题目即是相当于把现行工艺伸长了三倍，由此会带来百般工艺损耗，而良率也是一大寻事。
此中，针对日本JDI的eLEAP工夫，就有供应商提到，要是遵守这种筑制流程，还是依然采用镀膜工艺，简直每筑制一种颜色，就须要封装一次，而且对封装层实行扔光、明净后材干够进入到下一套工序，这种经常进出蒸镀机的工艺流程，对真正量产时的坐蓐出力、产物良率、归纳效益有何影响，仍有待评估。但起码，eLEAP给了行业一条较为真切的工艺道道，即是发光层是能够通过光刻工艺来完成的。
道及区别OLED工夫道道的异日趋向，胡春明夸大，中大尺寸OLED工夫道道——蕴涵蒸镀、无掩膜光刻和印刷都各有优误差，要害是企业要做出本身的政策采取并有才干引颈上下逛同心合力，材干最终完成领先。
“无FMM光刻OLED道道将会是接下来一段时刻的研商热门，跟着更众的企业进入，该工夫希望特别完满和成熟。总的来看，目前OLED财富的逐鹿式样仍将保卫较长一段时刻，更始才干的提拔将是企业间逐鹿的主旨和要害。”耿怡向记者说道。
OLED财富的逐鹿式样仍将保卫较长一段时刻，更始才干的提拔将是企业间逐鹿的主旨和要害。
